详细摘要： PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）是一种通用的聚合材料，适用于许多成像和非成像微电子系统。PMMA光刻胶是将PMMA聚合物溶解在诸如苯甲醚之类的安全溶剂中，曝光会导致...
产品型号：所在地：深圳市更新时间：2024-02-19 在线留言深圳市科时达电子科技有限公司
深圳市科时达电子科技有限公司
详细摘要： PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）是一种通用的聚合材料，适用于许多成像和非成像微电子系统。PMMA光刻胶是将PMMA聚合物溶解在诸如苯甲醚之类的安全溶剂中，曝光会导致...
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详细摘要： 特点：• 用于消除电子束曝光、SEM成像、FIB等工艺中的荷电效应• 通过旋涂的方式涂胶，操作简单• 涂胶厚度：40nm @ 4000rpm• 电子束曝光后可溶...
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详细摘要： 特点：• 用于耐刻蚀工艺、电镀、LIGA、MEMS等• 感光波段：Broadbａnd UV、i-line(365nm) g-line(436nm)、 e-bea...
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详细摘要： 刻胶（resist）概 述光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resis...
产品型号：所在地：深圳市更新时间：2024-02-19 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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